第214章 接近式曝光

    ??第214章 接近式曝光

    ??我们完全可以想象一下三十万平方公里是多麽的大。

    ??岛国的面积只不过三十七点八平方公里。

    ??相当於岛国这麽大，我们的国家呢，大约是九百六十万平方公里，相当於我们国土面积的3％了。

    ??这个面积不可谓不大，但是这麽大的面积仅仅误差一米，这是多麽令人恐怖的一件事情啊。

    ??这还仅仅是DUV光刻机，就有这样的精密度，要是换作更高级的EUV光刻机呢。

    ??那精密度更高！

    ??还是拿着三十万平方公里计算，那麽误差不会超过十厘米。

    ??“十厘米……”张星辰眼睛放着奇异的光芒，小白也不知道张星辰在想什麽。

    ??目前为止，在我们星球上只有德意志战车的斯克尔公司可以做到这一步。

    ??就算是风车国的ASML公司也是采购的这一家公司打磨的镜片。

    ??“我们这一次制造出来的光刻机，一共有着三个平台，这三个平台分别用来盛放掩膜，矽晶圆片还有成品。”

    ??放置成品的目的其实就是为了对芯片进行测试，检验一下芯片是否符合要求。

    ??和最後一个平台相比，前两个平台无疑要重要许多。

    ??这两种平台的运动方式有着两种方式，第一种就是相对静止的。

    ??相对静止模式的光刻机这样可以使得光线可以一下子就镌刻好芯片的线路图，速度相对